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    ZETA電位分析儀

    簡要描述:ZETA電位分析儀工作原理:
    粒度檢測: 動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)
    Zeta電位檢測:帶相位分析的多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering with Phase analyze, DELS with PALS)

    • 更新時間:2024-08-26
    • 瀏覽次數(shù):6119
    詳細(xì)介紹
    品牌PSS分散方式濕法分散
    價格區(qū)間面議儀器種類動態(tài)光散射
    產(chǎn)地類別進口應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥
    粒度范圍0.3nm--10.0μmZeta電位范圍-500mV ~ +500mV

    ZETA電位分析儀簡介:

    Nicomp Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號380ZLS基礎(chǔ)上升級配套而來,采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和擁有*技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有*優(yōu)勢。

    ZETA電位分析儀

    ZETA電位分析儀

    技術(shù)優(yōu)勢

    1、高靈敏度PMT檢測器;

    2、可搭配不同功率光源;

    3、準(zhǔn)確度高,接近樣品真實值;

    4、可測試水相及有機相樣品的粒度及Zeta電位;

    5、快速檢測,可以追溯歷史數(shù)據(jù);

    6、結(jié)果數(shù)據(jù)以多種形式和格式呈現(xiàn);

    7、符合USP,CP等個多藥典要求;

    8、無需校準(zhǔn);

    9、復(fù)合型算法:

    (1)高斯(Gaussion)正態(tài)粒度分布與*的Nicomp多峰分布算法自由切換

    (2)頻率(Frequency)Zeta電位分析法與*的相位(Phase)分析法自由切換

    10、模塊化設(shè)計便于維護和升級;

    (1)可自動稀釋模塊(選配);

    (2)自動進樣系統(tǒng)(選配);

    (3)搭配多角度檢測器(選配);



    Nicomp多峰分布概念

    基線調(diào)整自動補償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所*的兩個主要特點,Nicomp創(chuàng)始人Dave Nicole很早就認(rèn)識到傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布,這和實踐生產(chǎn)生活中不相符,因為現(xiàn)實中很多樣本是多分散體系,非單分散體系,而且高斯分布靈敏性不足,分辨率不高,這些特點都制約了納米粒度儀在實際生產(chǎn)生活中的使用。其開創(chuàng)性的開創(chuàng)了Nicomp多峰分布理論,大大提高了動態(tài)光散射理論的分辨率和靈敏性。


    Nicomp多峰分布優(yōu)勢

    Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統(tǒng)的DLS系統(tǒng)的結(jié)果,更可以通過Nicomp多峰分布模式體現(xiàn)樣品的準(zhǔn)確情況。依托于Nicomp系列儀器一系列優(yōu)異的算法和高靈敏性的硬件設(shè)計,Nicomp納米激光粒度儀可以有效區(qū)分1:2的多分散體系。


    ZETA電位分析儀優(yōu)勢:

    模塊化設(shè)計

    Nicomp Z3000納米激光粒度儀是全*在應(yīng)用動態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的*進粒度儀。隨著模塊的升級和增加,Nicomp 的功能體系越來越強大,可以用于各種復(fù)雜體系的檢測分析。


    選配 21CFR Part 11法規(guī)軟件——符合cGMP要求

    Nicomp系列儀器全系配備了符合美國聯(lián)邦法規(guī)21章第11款(21 CFR PART11)要求的軟件。具有數(shù)據(jù)自動備份,審計追蹤,權(quán)限分級,電子簽名,可連接Lims系統(tǒng)等多項功能。

    中國食品藥品監(jiān)督管理局(NMPA)有政策趨勢將對醫(yī)藥研發(fā)企業(yè)實施規(guī)范的GLP 管理。使用符合21 CFR PART 11法規(guī)的軟件更能符合現(xiàn)在GLP/GMP的要求。


    ZETA電位分析儀

     

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